真空电镀的前处置在电镀出产线上是电镀技术中十分关键的一步，基体资料外表处置的好坏直接影响镀层的质量，因而应对电镀前处置恰当的注重。
镀件的镀前处置是决议电镀质量的重要要素之一。在实习出产中，电镀故障率80%以上出在前处置工序，所以电镀前处置作用的好坏就显得尤为重要，真空电镀厂下面详细介绍基体的外表状况对镀层布局和联系力的影响。
真空镀膜层是由晶体或晶粒组成的，晶体的大小、形状及摆放方法决议着镀层的布局特性。在各种不一样的电镀液中，金属镀层的布局特性也是不一样的，主要是堆积进程不一样所造成的。开端电镀时，基体资料外表首要生成一些纤细的小点，即结晶核，跟着时刻添加，单个结晶数量添加，并相互衔接成片，构成镀层。
真空电镀厂的方法很多：
1.真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。
2.阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电， 真空电镀厂带正电的ya离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。
3.化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，镇江耳机配件真空电镀，获得沉积薄膜的过程。
4.离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。
鞋材真空镀膜中应注意的事项
由于当前的中频磁控管溅射电源的工作频率较低（20?60KHz），因此无法溅射绝缘靶。
中频磁控溅射电源的空载电压一般≥1000V?1200V，工作电压为500V?800V，工作频率为20KHz?60KHz，占空比为10％?90％。
较高的工作频率有利于提高抑制火花的能力，但会限制电源输出平均电流的能力。
由于两个靶交替工作，中频磁控管溅射电源的启动电压和工作电压高，并且在低压下也容易发生熄灭现象。
由于两个目标交替工作，从理论上讲，中频磁控溅射电源的电流或功率选择基本上可以由直流磁控溅射的两倍来决定，但考虑到其较高的工作电压，可以适当降低工作量当前。
离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下，真空镀膜厂采用适当的方式使镀膜材料蒸发，利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离，在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下，蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式，构成了不同类型的离子镀，下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。
表离子镀的种类及其特点
直流放电法 电阻 辉光放电dc:0.1kv～5kv 惰性气体1pa，0.25ma/cm2 结构简单，膜层结合力强，但镀件温升高，分散性差！
耐热，润滑等镀件
弧光放电法 电子束、灯丝 弧光放电dc:100v高真空1.33x10-4pa 离化率高，易制成反应膜，耳机配件真空电镀报价，可在高真空下成膜，利于提高质量 切削工具、金属装饰等镀件
空心阴极法 空心阴极 等离子体电子束dc:0v～200v
惰性气体或反应气体 离化率高，耳机配件真空电镀，蒸发速度大，易获得高纯度膜层 装饰、耐磨等镀件
调频激励法 电阻、电子束 射频电场13.56mhzdc:0.1kv～5kv
惰性气体或反应气体 离化率高，耳机配件真空电镀工厂，膜层结合力强，镀件温升低，但分散性差 光学、半导体等镀件
电场蒸发法 电子束 二次电子dc:1kv～5kv
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