应用： 用于制作SiO2/Si3N4膜，主要用于光学玻璃、触摸屏之AR膜系，Low-E玻璃膜系, ,半导体,平面显示,触摸屏
产品化学成分和物理性能：
化学式：Si
电阻率（20°C）： ≤ 70 Ω. cm
成型工艺：喷涂
密度: > 2.2g/cm3（>95%）
纯度: > 99.95%
较大杂质含量 （单位: ppm， 总杂质含量≤ 500ppm)
较大加工尺寸
长度L 4000MM 厚度T 6-10MM
直型、狗骨型
按客户要求定做
包装方式：真空密封包装，使用标准出口木箱。
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