看似简单的光耦电路，实际使用中应该注意些什么？
电器应用中常用的隔离器件有光耦、继电器、变压器。?光耦属于流控型元件，以光为媒介传输信号：电→光→电，输入端是发光二极管，输出端是光敏半导体。光耦的应用是隔离作用，常用于输入与输出之间无共地的系统。所以输入与输出之间的耐压可达上千伏特。很多通讯模块也是光耦隔离的，更容易实现各个系统之间的连接，原厂授权电子零件生产生产厂家，完全不用考虑是否共地。
关键性点
① 光耦的应用是隔离；
② 在相近电压之下，线性光耦的输入电阻和输出电阻相近，原厂授权电子零件生产小批量订单，输入电流IC与输入电流if基本相同；即使输出和输出电压有所不同，也可通过对应输入和输出间的电阻来构建；
③ 线性光耦和非线性光耦都可用来转换信号。无关，非线性光耦不能取代线性光耦电路；
④ 非线性光耦的响应速度比线性光耦慢，这与比较器的响应速度比运算放大器的响应速度相近。
第二代3nm工艺初步生产，已有客户订购产能
今日（6月30日），三星通过其公众号“三星半导体和显示”宣布，基于3nm全环绕栅极（Gate-All-AroundT，简称GAA）制程工艺节点的芯片已经开始初步生产，首先将应用于、低功耗计算领域的半导体芯片，并计划将其扩大至移动处理器领域。
与三星5nm工艺相比，原厂授权电子零件生产厂家，三星代3nm工艺可以使功耗降低45%，上海原厂授权电子零件生产，性能提升23%，芯片面积减少16%；三星表示，未来第二代3nm工艺将使功耗降低50%，性能提升30%，芯片面积减少35%。
至于3纳米客户方面，有媒体报道称，消息人士透露，三星称已经有客户订购产能，包括虚拟货币挖矿机芯片设计公司上海磐矽半导体 (PanSemi)，以及移动处理器大厂高通 (Qualcomm) 等，不过高通将视情况进行投片。
从时间节点来看，三星3纳米技术量产时间确实台积电。
制裁遭反制？三星遭黑ke事件，190G机mi资料xie露 | 广州同创芯
三星今日宣布暂停向俄罗斯发货，还要捐出三星600万美元支持乌克兰人道工作。之后就传出遭到黑ke组织 Lapsus$攻击，多达 190 GB 的数据泄露。
韩联社报道，消息人士透露，黑ke组织Lapsus$ 声称ru侵三星电子的系统，并在网上泄露了多达 190 GB 的数据和原始码。
Lapsus$ 还表示，已将这些资料上传到网路，提供下zai。对此，三星则回应，现在正在评估情况。
至于三星是否因为加入制裁俄罗斯而遭到黑ke攻击，无法证实，但三星的确在今日宣布暂停出货到俄罗斯，随后就传出黑ke事件，时间敏感，引发臆测。
无独有偶，丰田汽车1日也宣布，该公司位在日本国内的所有汽车组装厂，共计 14 座工厂的 28 条生产线ting工一天，原因也是主要零件供应商遭黑ke攻击，当时也引发可能是俄罗斯进行报fu的猜测。
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