多弧离子真空磁控溅射镀膜机工作原理蒸发系统的结构与工作原理介绍
多弧离子镀膜机是一种、无害、无污染的离子镀膜设备，具有堆积速度快、离化率高、离子能量大、设备操作简略、本钱低、出产量大的长处。
真空多弧离子镀膜机偏压电源的作业原理
离子镀膜正本是离子溅射镀膜，关于导电靶材，运用直流偏压电源；非导电靶材，运用脉冲偏压电源。有的多弧离子镀膜机，可能还需求直流电弧电源或脉冲电弧电源
偏压电源正本即是在阴极和样品所在位置的阳极之间构成偏压电场，通常是阴极加负高压。阴极外表的自由电子在电场效果下定向加快发射，发射电子炮击气体分子，使之电离，并且气体被驱出的电子被电场加快，持续电离别的气体分子，接二连三，构成雪崩效应，气体被击穿，构成稳定的电离电流。此刻离子也被加快，炮击靶材，将靶材中的原子驱除出外表，并堆积在样品外表。
pvd镀膜设备镀出的膜层出现异样,是什么原因
之前有少数客户会咨询我们，为什么PVD镀膜设备镀出来的膜，偶尔会出现异样的情况，问具体是什么原因。经过我们技术人员上门检查排查，原因各有不同，下面真空小编为大家讲解真空镀膜不良解析。
随着消费水平的提升，人们对产品外观要求也越来越更高，PVD镀膜的应用也越来越广泛。PVD镀膜设备也获得越来越多的制造业厂家认可和喜爱，它的优势也是显而易见的。大家都知道机器，真空镀膜是把金属或者金属氧化物变成气态的分子或原子使其沉积在镀件表面形成镀层的一种技术。和传统的电镀技术相比污染更小、能耗更低，所需的成本较低，装饰效果和金属感都比较强。但是大家也都知道它的缺点，PVD电镀工艺不良率高、生产效率低、膜后不稳定以使颜色稳定性差等，这是整个行业的痛点。随着后期技术不断的发展，环保要求门槛不断提高，传统电镀逐渐将被替代及消费者对产品外观的提高，真空镀膜技术在未来会有更广阔的发展前景。
真空磁控溅射镀膜机的电气控制系统介绍
真空磁控溅射镀膜机的电气控制系统按位置分为控制柜、变压器组和操作台三个主要部分。设备所有功能的控制元器件包括可编程PLC、变频器、调压模块等都装在控制柜里，控制柜的正面安装有电阻、电离复合真空计，安装有增压泵、扩散泵的加热电流表以及三相电源的指示灯、报警指示灯、紧急停止开关。
变压器组安装在真空罐的下面，其输出端正极直接与对应的蒸发电极棒连接，输出端负极并接后再与蒸发负极连接。
操作台安放在真空罐的前方、观察窗的下方，触摸屏、各部件的操作控制按钮、旋钮或开关都设在操作台的面板上。
触摸屏位于操作面板的左上部，卷绕系统参数包括收放卷的张力、卷径、机器的运行速度等的设置和数据显示、真空系统的运行指示都在触摸屏中进行。
操作面板的右上部是蒸发源加热功率调节钮和电流表，可以调节和显示每组蒸发源的功率。
操作面板的下部是功能控制按钮或开关，包括控制电源总开关、卷绕车进退、摆臂进退、弯辊正反转、送丝开关及速度快慢、盖板开关、系统运行的控制模式选择等。
