沈阳镀膜设备-至成真空镀膜设备-真空磁控溅射镀膜设备

产品编号:67101274 修改时间:2020-05-19 10:37
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真空镀膜设备选购要点分析


真空镀膜设备选购要点分析如下:

1、炉体可选择由不锈钢、碳钢或它们的组合制成的双层水冷结构。

2、根据工艺要求选择不同规格及类型的镀膜设备,其类型有电阻蒸发、电子束蒸发、磁控溅射、磁控反应溅射、离子镀、空心阴极离子镀、多弧离子镀等。

3、夹具运转形式有自转、公转及公转 自转方式,用户可根据基片尺寸及形状提出相应要求,转动的速度范围及转动精度:普通可调及变频调速等。

4、真空系统由机械泵、扩散泵、油增压泵、增扩泵、罗茨泵、埚轮分子泵等及与它们相匹配的各种气动、手动、电动阀门、管道等组成。


5、根据工艺要求选择镀制方式及形式,如电阻蒸发(钨丝、钼舟、石墨舟)磁控源(同轴圆柱型磁控源、园柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等)以靶材材质及尺寸多弧源(Ф60,Ф80直径靶材,气动、电动的引弧等),真空测量可选择数字式智能真空计及其优质的测量规管,及其它测量仪器,如自动压强控制仪等。膜厚测量可选用方块电阻测量仪,透过率计等。

6、充气方式可选用质量流量计、浮子流量计 针阀及相应的充气阀门,并可选择多路充气管路及相应流量参数。

7、根据需烘烤的结构提出烘烤温度、材质以及所需配备相应仪表测量。

8、根据设备使用特点,可选择手动、半自动、全自动或其组合的控制方式。

9、完善的报警系统,对真空室体、扩散泵断相、缺水、气压、电源负载的过压、过流等异常情况进行声光报警。



真空镀膜机镀制薄膜不均匀的解决方法


随着镀膜技术的快速增长,各种类型的真空镀膜机也开始逐渐出现。但是论起薄膜的均匀性,恐怕所有的真空设备镀制的薄膜的均匀性都会受到某种因素影响。

对此,真空镀膜机厂家指出,它的运作原理其实很简单。就是通过真空状态下正交磁场使电子轰击Ar气形成的Ar离子再轰击靶材,靶材离子沉积于工件表面成膜。如此车灯镀膜机厂家就该考虑与膜层厚度的均匀性有关的有真空状态、磁场、Ar气这三个方面。

真空状态就需要抽气系统来控制的,每个抽气口都要同时开动并力度一致,这样就可以控制好抽气的均匀性,如果抽气不均匀,在真空室内的压强就不能均匀了,压强对离子的运动是存在一定的影响的。另外抽气的时间也要控制,太短会造成真空度不够,但太长又浪费资源,不过有真空计的存在,要控制好还是不成问题的。



真空镀膜设备需要的环境要求


真空镀膜设备要在真空条件下工作,因此该设备要满足真空对环境的要求。真空对环境的要求,一般包括真空设备对所处实验室(或车间)的温度、空气中的微粒等周围环境的要求,和对处于真空状态或真空中的零件或表面要求两个方面。

这两个方面是有密切联系的。周围环境的好坏直接影响真空设备的正常使用;而真空设备的真空室或装入里面的零件是否清洗,又直接影响设备的性能。如果空气中含有大量的水蒸气和灰尘,在真空室没有经过清洗的情况下用油封机械泵去抽气,要达到预期的真空度很难的。众所周,油封式机械泵不宜抽除对金属有腐蚀性、对真空油其反应的以含有颗粒尘埃的气体。水蒸气为可凝性气体,当大量抽除可凝性气体时,对泵油的污染会更加严重,结果使泵的极限真空下降,破坏了泵的抽气性能。


工业环境中的粉尘是以粉状体、眼无题、粉尘来区分的。粉状体是粉末或固体颗粒的集合或分散状态的物质。所谓粉末是指微小的固体颗粒的集合,而颗粒是指能够一个一个计数的微小物质。烟雾体是以固体或液体的微小颗粒呈浮状态存在于气体中的物质体系。物质无论是固体还是液体,凡是呈颗粒状态均可统称为尘粒。以尘粒直径的大小来确定空气清洁度的标准,从而定制出洁净室的等级。不仅适合于有洁净要求的工业部门,也适合于真空对洁净环境的要求。


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