用途:主要应用于半导体镀膜和光学镀膜
牌号:RO5200,RO5400
纯度:99.95% ,99.99%
规格:方靶材,厚度x宽度x长度=5~25x≤800x≤2000(mm)
圆靶材,厚度x直径=5~25x≤Φ800(mm)
钽靶,钽蒸发镀膜材料,钽添加剂
产品编号:44290590
修改时间:2020-07-16 11:52 发布IP:113.140.61.168 访问统计:1次
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用途:主要应用于半导体镀膜和光学镀膜
牌号:RO5200,RO5400
纯度:99.95% ,99.99%
规格:方靶材,厚度x宽度x长度=5~25x≤800x≤2000(mm)
圆靶材,厚度x直径=5~25x≤Φ800(mm)
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