本设备是用于真空蒸发镀光学薄膜、低熔点金属和合金薄膜。特别适合小型企业、科研单位和高校研发、教学使用。1 极限真空度 £6.6×10 Pa; 2 真空获得系统采用分子泵+机械泵机组; 3 连续抽气30分钟,真空度 £8×10 Pa; 4 蒸发:电阻式蒸发电极3组,蒸发电源:2套,功率2KW; 5 基片架:旋转(可选)、加热(可选)、水冷基片盘(可选) 6 功能性辅助:基片负偏压(选配)、高压离子轰击(选配)、腔体烘烤(选配) |
镀膜机
产品编号:28210182
修改时间:2017-10-09 14:23 发布IP:110.251.117.205 访问统计:1次
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