科研/生产兼用
简介：
PhableR 100 紫外光刻机是一套低成本的光学曝光系统，但却能获得高分辨率的周期性结构。同传统的紫外曝光机类似，涂覆了
光刻胶的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于Eulitha公司拥有突破性的PHABLE 曝光技术，在"PHABLE"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，从而曝光出亚微米的线性光栅和二维光栅（六角形和正方形），且曝光结果非常均匀，质量很 好；在"mask aligner"模式下，能非常轻松地获得微米尺寸的图形。
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特点：
· 高效的大面积亚微米-纳米图形化设备
· 操作简单、工作稳定，兼容科研及批量生产
· 纳米周期性图案解决方案
优势：
· 大面积图形化设备：适用4、6、8寸衬底
· 高曝光效率：非步进式曝光，无拼接，单次全场曝光实现整片图形化
· 高精度：光学衍射自成像原理，突破传统曝光精度极限
· 非接触式曝光
· 设备没有景深限制，曝光过程无需对焦
· 双工作模式（UV375机型）：高分辨模式（周期性纳米-微米结构），一般紫外光刻模式（非周期结构）
· 设备采用通用的商业光刻胶，根据客户的图形，提供工艺技术支持。
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PhableR 100革新性紫外光刻机 |
技术指标：
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光源 |
UV375nm |
DUV266nm |
DUV193nm |
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分辨率 |
125nm |
75nm |
62nm |
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周期范围 |
250-3000nm |
150-2500nm |
125-2000nm |
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操作方式 |
手动装片-自动曝光 |
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参数设置 |
触摸屏 |
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基片尺寸 |
大4、6、8英寸（尺寸向下兼容） |
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PhableR 100 晶圆级光子学结构的曝光工具
