高纯钽靶材 钽靶 Ta靶材-高纯钽-中诺新材(多图)

产品编号:53281417 修改时间:2020-01-10 11:27
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高纯钨的制备方法可分为粉末冶金法、熔炼法和化学气相沉积法。

1、粉末冶金法:指钨粉经过成形后,高纯钽靶材 钽靶 Ta靶材,加热到其熔点下的某个温度,通过物质迁移完成致密化的过程,终可得到钨坯或某些形状简单的钨制品。

2、熔炼法:指将钨原料加热到其熔点以上形成液相,99.95%高纯钽靶材4英寸,去除杂质后再冷却凝固实现致密化的过程,根据所采用的手段不同,具体方法有真空自耗电弧熔炼法、电子束熔炼法和等离子束熔炼法等。

3、化学气相沉积:指以钨化合物气体(一般为WF6)为钨源,高纯钽靶材 溅射镀膜钽靶材铌靶,在一定温度下被H2还原,将生成的钨沉积在特定的基底上,沉积完成后去除基底材料获得致密钨坯(或者制品)的过程。





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常规产品明细如下:

高纯锑Sb5N-7N晶体颗粒

高纯铋Bi5N 6N 颗粒 粉末

高纯镉Cd5N-7N颗粒 锭 粉末 片状

高纯铜Cu5N 6N颗粒

高纯铟In5N-7N颗粒 锭 粉末

高纯磷P5N 6N块状

高纯铅Pb5N-7N颗粒 粉末

高纯硒Se5N-6N颗粒 锭 粉末

高纯碲Te5N-7N颗粒 粉末

高纯硫S5N 6N粉末 块状

高纯锡Sn5N 6N颗粒 锭

高纯锌Zn5N 6N颗粒 锭 棒




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