微弧氧化电源-微弧氧化电源设计-日照微弧技术(推荐商家)

产品编号:49064400 修改时间:2019-12-03 15:05
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微弧-电泳工艺简介

微弧电泳复合处理工艺的核心是以微弧氧化处理工艺取代磷化(或阳极氧化)等前处理,微弧氧化电源使用方法,正是由于微弧氧化处理的工艺特点及其形成陶瓷层的表面特征,微弧氧化电源设计,才得以实现简化电泳工艺、大幅度提高铝、镁合金耐蚀性的目的。

铝合金微弧-电泳氧化膜层应控制在5μ以下;镁合金膜层控制在5-15μ为宜。

微弧-电泳工艺流程:氧化 — 清洗— 喷淋清洗— 热风烘干— 电泳 —喷淋清洗 — 烘干固化









微弧氧化技术特点

(1)氧化膜具有陶瓷结构特征。

(2)原位生长。

(3)氧化膜均匀增厚。

(4)无污染:无环保限制元素加入,基本无废水排放。

制备工艺简单。

(5)表面硬度高,显微硬度在400至1500HV;

(6)耐磨损性能与硬质合金相当;

(7)耐腐蚀性能:盐雾试验铝合金1000-2000小时 ;镁

合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。

(8)耐热性能:300℃水中淬火35次未见变化,1300℃

冲击5次不脱落、不龟裂。

(9)绝缘性能:膜厚不同,表面电阻达 109-12Ω


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。微



与普通的阳极氧化膜相比, 微弧氧化膜的空隙小,空隙率低,与基质结合紧密,微弧氧化电源, 且在耐蚀、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技术生成的膜层综合性能优良,与基体结合牢固, 且工艺简单,对环境污染小, 目前对其生长规律、生长机理和影响因素等已经有了较为深入的研究, 在工业上得到了一定的应用, 是一种具有发展潜力的镁合金表面处理技术。微弧氧化技术在现代工业中应用汇越来越广泛。


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